
在半導體制造領域,超純氣體(如高純氮氣、氬氣)是晶圓光刻、蝕刻、沉積等核心工藝的“生命線"。然而,氣體中哪怕僅含1ppbv(十億分之一體積比)的微量水分,也可能在硅基材料表面形成氧化層或顆粒污染,導致晶圓良率驟降甚至設備停機。英國SHAW公司推出的SDHmini-Ex便攜式露點儀,憑借其ppb級檢測精度、防爆安全設計與智能化功能,成為超純氣體供應系統中水分監測的“zhong極防線"。
SDHmini-Ex搭載肖氏第三代高電容氧化鋁傳感器,測量范圍覆蓋-100℃至+20℃露點,分辨率達0.01℃,可精準捕捉高純氣體中低至0.1ppbv的微量水分。在芯片制造車間,該儀器可實時檢測氣體管路露點溫度,確保其低于-80℃(對應約0.5ppbv水分含量),滿足SEMI F-63標準對超純氣體的嚴苛要求。其支持ppbv、ppmw、℃等多單位顯示,并內置NIST溯源校準曲線,數據可直接用于ISO 14644-1潔凈室認證報告。
針對氣體供應系統中可能存在的氫氣等易ran氣體,SDHmini-Ex通過ATEX II 1G Ex ia IIC T4 Ga、IECEx Ex ia IIC T4 Ga認證,可在Zone 0/20危險區域安全使用。其IP66防護等級與316L不銹鋼電解拋光管路(Ra≤0.1μm),避免金屬離子析出污染氣體;內置50μm PTFE過濾器可攔截0.01μm以上顆粒,確保儀器本身不成為污染源。
儀器du創“快速干燥-動態測量"模式,通過zhuan利干燥劑艙室設計,10秒內即可完成傳感器預處理并啟動檢測,較傳統儀器效率提升80%。其300,000組數據存儲與藍牙5.0實時傳輸功能,支持與SECS/GEM協議對接,將檢測數據直接上傳至MES系統,實現工藝參數全追溯。
國內某12英寸晶圓廠引入SDHmini-Ex后,在光刻機氣體供應管路部署多點檢測,成功將氮氣露點從-70℃穩定控制在-90℃以下,晶圓表面顆粒缺陷率下降92%,年良率損失減少超2000萬元。其150小時續航與10種語言菜單,更助力跨國技術團隊實現24小時quan球協同維護。
從硅棒拉制到xian進封裝,SDHmini-Ex以“超精、超穩、超快"的核心優勢,為超純氣體系統提供全鏈路水分控制,助力半導體產業突破“摩爾定律"極限,邁向零que陷制造新時代。